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张祥文

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：景德镇陶瓷学院更多>>
发文基金：江西省自然科学基金更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇氢化非晶硅
  • 1篇氢化非晶硅薄...
  • 1篇均匀性
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶硅
  • 1篇非晶硅薄膜

机构

  • 1篇景德镇陶瓷学...
  • 1篇北京工业大学

作者

  • 1篇陈光华
  • 1篇胡跃辉
  • 1篇王立富
  • 1篇谢耀江
  • 1篇张祥文
  • 1篇曲铭浩

传媒

  • 1篇陶瓷学报

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
用HW-MWECRCVD系统沉积大面积均匀氢化非晶硅薄膜的研究
2009年
通过紫外-可见透射谱技术,计算得到薄膜各个位置的拟合厚度值,研究了a-Si∶H薄膜的厚度均匀性;通过对紫外-可见透射谱的分析和对红外吸收谱峰宽度的分析,研究了a-Si∶H薄膜的结构均匀性。研究发现对于单磁场线圈MWECRCVD系统,ECR区的不均匀性和沉积室的磁场梯度的不均匀,是影响a-Si∶H薄膜均匀性的主要原因。通过改进矩形耦合波导和热丝辅助及减小磁场线圈电流的方法,采用HW-MWECRCVD系统,在直径为6cm的衬底上沉积了厚度不均匀性<3.5%的a-Si∶H薄膜。
王立富胡跃辉张祥文陈光华曲铭浩谢耀江
关键词：均匀性氢化非晶硅薄膜
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共1页<1>
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