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高琼

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：陕西师范大学化学化工学院应用表面与胶体化学教育部重点实验室更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇镀铜
  • 1篇塑料
  • 1篇添加剂
  • 1篇巯基
  • 1篇噻唑
  • 1篇化学镀
  • 1篇化学镀铜
  • 1篇苯并噻唑
  • 1篇2-巯基苯并...
  • 1篇沉积速率

机构

  • 1篇陕西师范大学
  • 1篇陕西教育学院

作者

  • 1篇孙宇曦
  • 1篇昝灵兴
  • 1篇王增林
  • 1篇路旭斌
  • 1篇王晓兰
  • 1篇丁杰
  • 1篇高琼

传媒

  • 1篇电镀与涂饰

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
2-巯基苯并噻唑对化学镀铜的影响被引量：2
2012年
以甲醛为还原剂，研究了2-巯基苯并噻唑（2-MBT）对ABS塑料化学镀铜沉积速率、铜镀层表面形貌、纯度、平整度及晶型的影响。化学镀铜的工艺条件为：CuS04·5H2O10g／L，EDTA-2Na30g／L，HCHO3mL／L，PEG-10002mg／L，2-MBT0～2mg／L，温度70℃或40℃，pH12．5，时间1h。镀液中加入低浓度2-MBT后，化学镀铜的混合电位正移，沉积速率提高，铜镀层的致密性和平整性得到改善，但镀层晶型变化不大。2-MBT在化学镀铜中只起配位和加速作用，所得铜镀层纯度较高。
昝灵兴王晓兰丁杰孙宇曦高琼路旭斌王增林
关键词：塑料化学镀铜2-巯基苯并噻唑添加剂沉积速率
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共1页<1>
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