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张绪瑞

作品数:13 被引量:23H指数:3
供职机构:天津大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金天津市自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 4篇专利
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇理学
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 10篇多孔硅
  • 3篇氧化钒
  • 3篇热导率
  • 3篇孔隙率
  • 2篇电化学
  • 2篇电化学法
  • 2篇电化学腐蚀
  • 2篇氧化钨
  • 2篇鱼眼
  • 2篇三氧化钨
  • 2篇探测器
  • 2篇气敏
  • 2篇气敏传感器
  • 2篇热绝缘
  • 2篇微观结构
  • 2篇微结构参数
  • 2篇显微拉曼
  • 2篇显微拉曼光谱
  • 2篇力学性能
  • 2篇金属化

机构

  • 13篇天津大学
  • 1篇天津师范大学

作者

  • 13篇张绪瑞
  • 12篇胡明
  • 7篇杨海波
  • 7篇张伟
  • 4篇张伟
  • 3篇刘志刚
  • 2篇尹英哲
  • 2篇吕宇强
  • 2篇冯有才
  • 2篇陈鹏
  • 2篇甄志成
  • 1篇王明霞
  • 1篇周庆瑜
  • 1篇李德军
  • 1篇梁继然
  • 1篇房振乾

传媒

  • 2篇物理学报
  • 1篇物理化学学报
  • 1篇传感技术学报
  • 1篇天津大学学报
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇第八届中国微...

年份

  • 1篇2010
  • 3篇2008
  • 7篇2007
  • 2篇2006
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
三氧化钨薄膜气敏传感器的表面改性方法
本发明公开了一种三氧化钨薄膜气敏传感器的表面改性方法,属于气敏传感器技术。其制备过程包括:对Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>基片进行清洗;在磁控溅射设备中,采用铂为靶材,在氩气为工作气体,在基片上溅...
胡明尹英哲冯有才陈鹏张伟张绪瑞刘志刚
文献传递
基于纳米压痕法的多孔硅硬度及杨氏模量与微观结构关系研究被引量:7
2007年
采用电化学腐蚀制备多孔硅,利用场致发射扫描式电子显微镜(field emission scanning electron microscope,FESEM)观测多孔硅的二维微观形貌,利用Nano Indenter XP中的纳米轮廓扫描仪组件(nano profilometry,NP)得到其三维拓扑分析图像,分析了微观结构差异的原因并讨论了多孔硅内部微观结构对其机械性能的影响;利用MTSNano Indenter XP纳米压入测量仪器,研究了多孔硅的显微硬度和杨氏模量随压入深度的变化规律,比较了不同孔隙率多孔硅的机械性能差别.实验结果测得40mA/cm2,60mA/cm2,80mA/cm2和100mA/cm2四个不同腐蚀电流密度条件下制备多孔硅样品的孔隙率在60%-80%范围内,孔隙率随着腐蚀电流密度的增加而增大;在氢氟酸(HF)浓度为20%的条件下制备出多孔硅样品的厚度在40μm-50μm范围内;测得多孔硅的平均硬度、平均杨氏模量分别在0.478GPa-1.171GPa和10.912GPa-17.15GPa范围内,并且其数值随腐蚀电流密度的增加而减小,在纳米硬度范围内随压入深度的增加而减小,在显微硬度范围内其数值保持相对恒定,分析了样品表面、厚度、微观结构,及环境对其机械性能的影响,得到了多孔硅力学性能随其微观尺度形貌的变化规律.
杨海波胡明张伟张绪瑞李德军王明霞
关键词:多孔硅微观结构杨氏模量
微结构参数对多孔硅层热绝缘性能的影响被引量:3
2006年
研究了多孔硅层厚度,孔隙率以及多孔硅中微晶粒尺寸三个微结构参数对其热绝缘性的影响机制.实验选用p+,p-两种掺杂浓度的硅片基底,采用电化学腐蚀法,通过改变腐蚀时间和腐蚀电流密度获得不同微结构参数的多孔硅层.分别采用显微拉曼光谱法及测量显微镜聚焦法测量了样品的热导率和厚度.研究发现,多孔硅层厚度影响热量传输路径,而孔隙率和微晶粒尺寸通过降低热导率从而使多孔硅的绝热性增强.
胡明张伟张绪瑞杨海波
关键词:多孔硅电化学腐蚀显微拉曼光谱热导率
三氧化钨薄膜气敏传感器的表面改性方法
本发明公开了一种三氧化钨薄膜气敏传感器的表面改性方法,属于气敏传感器技术。其制备过程包括:对Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>基片进行清洗;在磁控溅射设备中,采用铂为靶材,在氩气为工作气体,在基片上溅...
胡明尹英哲冯有才陈鹏张伟张绪瑞刘志刚
文献传递
多孔硅形成过程及孔隙率的计算机模拟
2007年
为了用计算机模拟电化学方法制备多孔硅的过程,基于Monte Carlo和扩散限制模型(DLA)建立一种新模型,引入耗尽区范围、腐蚀半径和腐蚀几率等参数,用Matlab来实现.模拟得到了电流密度、HF酸浓度、腐蚀时间以及硅片掺杂浓度等实验条件对多孔硅孔隙率的影响趋势,与实验结果一致,模拟出的孔隙率值也与实验值接近.因此所建立的模型可以用来模拟电化学法制备多孔硅的过程.
胡明张绪瑞张伟杨海波周庆瑜
关键词:多孔硅孔隙率计算机模拟
微结构参数对多孔硅层热绝缘性能的影响
本文研究了多孔硅层厚度,孔隙率以及多孔硅中微晶粒尺寸三个微结构参数对其热绝缘性的影响机制.实验选用p+,p-两种掺杂浓度的硅片基底,采用电化学腐蚀法,通过改变腐蚀时间和腐蚀电流密度获得不同微结构参数的多孔硅层.分别采用显...
胡明张伟张绪瑞杨海波
关键词:多孔硅电化学腐蚀显微拉曼光谱热导率微结构参数
文献传递
电化学法制备多孔硅的双槽装置
本发明涉及一种电化学法制备多孔硅的双槽装置,属于制备多孔硅的装置。该双槽装置包括槽体,在槽体内开设固定插槽,在固定插槽上插入“凹”形基板,采用螺钉将压板基板及垫板连接为一体,在由基板与压板及垫板所构成的凹形槽之间,设置一...
胡明张绪瑞张伟
文献传递
电化学法制备多孔硅的双槽装置
本发明涉及一种电化学法制备多孔硅的双槽装置,属于制备多孔硅的装置。该双槽装置包括槽体,在槽体内开设固定插槽,在固定插槽上插入“凹”形基板,采用螺钉将压板基板及垫板连接为一体,在由基板与压板及垫板所构成的凹形槽之间,设置一...
胡明张绪瑞张伟
文献传递
MEMS微热敏器件中多孔硅绝热性能研究及模拟
近几年来,随着微电子机械系统/(MEMS/)的发展,多孔硅优良的机械性能和热学性能逐渐为人们所关注。本文主要针对多孔硅材料在MEMS微热传感器中作为绝热层的应用进行了研究及模拟。 本论文以多孔硅基热电偶式MEM...
张绪瑞
关键词:MEMS多孔硅有限元分析
文献传递
非制冷红外探测器多孔硅绝热层的研究
以多孔硅作为绝热层材料,采用超高真空对靶磁控溅射镀膜法,在多孔硅样品表面和硅基底表面沉积氧化钒薄膜。实验采用电化学腐蚀法制备多孔硅,利用场致发射扫描电子显微镜观测了孔隙率为50%,60%,70%三个多孔硅样品的微观形貌。...
杨海波胡明吕宇强甄志成张绪瑞张伟
关键词:非制冷红外探测器氧化钒多孔硅绝热层力学性能
文献传递
共2页<12>
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