您的位置: 专家智库 > >

孙秋霞

作品数:15 被引量:40H指数:5
供职机构:韶关学院化学与环境工程学院更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学金属学及工艺电子电信电气工程更多>>

文献类型

  • 10篇期刊文章
  • 4篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 7篇理学
  • 4篇金属学及工艺
  • 3篇电子电信
  • 2篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 12篇阻抗谱
  • 10篇电化学
  • 10篇电化学阻抗
  • 10篇电化学阻抗谱
  • 5篇EIS
  • 4篇传输线
  • 3篇缓蚀
  • 3篇缓蚀剂
  • 2篇电极
  • 2篇电位
  • 2篇涂层
  • 2篇平带电位
  • 2篇金属
  • 2篇硅烷
  • 1篇导电高分子
  • 1篇电池
  • 1篇选择电极
  • 1篇粘接
  • 1篇粘接力
  • 1篇粘结

机构

  • 8篇韶关学院
  • 7篇浙江大学
  • 2篇厦门大学
  • 1篇中国科学院金...

作者

  • 15篇孙秋霞
  • 4篇张鉴清
  • 2篇林昌健
  • 2篇林薇薇
  • 1篇陆英
  • 1篇王金库
  • 1篇梁剑波
  • 1篇刘凌峰
  • 1篇骆海平
  • 1篇范启恒
  • 1篇苏铭鸿
  • 1篇沈致钦
  • 1篇何效强
  • 1篇钟亮

传媒

  • 2篇物理化学学报
  • 2篇化学研究
  • 2篇韶关学院学报
  • 2篇第三届海峡两...
  • 1篇金属学报
  • 1篇材料导报
  • 1篇开封大学学报
  • 1篇广州化工
  • 1篇2009年第...
  • 1篇第2届国际有...

年份

  • 7篇2010
  • 1篇2009
  • 4篇2004
  • 2篇2002
  • 1篇2001
15 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
传输线解析EIS评价含H_2S的复杂缓蚀体系
2010年
采用传输线模型(CRM)解析电化学阻抗谱(EIS)评价了含H2S的复杂缓蚀体系.结果表明,在固定结构等效电路评价难以奏效时,借助CRM离散参数Ri,可得到缓蚀效率随特征频率变化的丰富信息以及与综合评价一致的结果.实际缓蚀体系大多比较复杂,故本方法具有较大的应用价值.
孙秋霞沈致钦钟亮
关键词:电化学阻抗谱缓蚀剂H2S
CPE与有机涂层/金属界面的失效
烷处理提高金属的抗腐蚀能力及与有机涂层的粘接力为背景、用人造缺陷加速界面层间的脱层失效、EIS为主要手段研究有机涂层与金属基底间状态的变化,发现界面失效程度与等效电路中的恒相位角元件(CPE)的指数项(n)的几何平均值数...
孙秋霞张鉴清林昌健林薇薇
关键词:硅烷CPE粘接力
用CR传输线模型研究涂层/金属体系阻抗谱被引量:6
2004年
根据CR传输线模型和QR电路之间的关系,建立了拟合其初值的计算方法,借助Z-View软件,可求得各元件精确值.根据电容(Ci)和电阻(Ri)随特征频率(f)的分布,推导了元件相对增量与恒相位角元件(Q)指数参数n的关系,结果表明,当n小于0.5时,Ci比Ri增加得更快,从新的角度说明了n的物理意义及其和界面脱层之间的关系.作为应用实例,拟合了不同特征的电化学阻抗谱,分析了有机涂层/金属腐蚀体系阻抗变化的具体过程,区分了点蚀和脱层因素对阻抗谱的影响,从高阻抗体系同时得到了与不同空隙率有关的涂层电容和电阻值,并根据涂层体系的不均匀特征探讨了模型结构的物理意义.
孙秋霞张鉴清林昌健
关键词:电化学阻抗谱物理意义
传输线模型分析有机涂层厚度对阻抗谱的影响被引量:1
2004年
根据传输线类型的CR电路和结构固定的QR电路之间关系所建立的分析阻抗谱的方法,探讨了有机涂层厚度的不同影响及其应用.CR电路拟合稳定性较高,对于完整涂层,其参数C0随涂层吸水量增加的变化比恒相位角元件参数Y0更有规律,导出参数A1和B1可评价涂层厚度对阻挡性的影响.对于阻挡性不完整的薄涂层,在一定厚度范围内,离散电容Ci随特征频率f*变化的对数曲线斜率与涂层厚度无关,但与离散电容和电阻的相对增量比有确定的关系,可用于评价金属/涂层界面粘结力的变化,并解释了其原因.
孙秋霞张鉴清林薇薇
关键词:阻抗谱传输线涂层厚度粘结力
用CR传输线模型解析电池体系EIS
电化学阻抗谱(EIS)在电子器件、电池、腐蚀、电镀、环保、医学等许多与金属材料有关领域应用广泛,国内外涉及期刊近百种,论文数以万计.但其中绝大部分以EIS为辅助研究手段,给出拟合参数的不足20%,进行定量分析的更少,尤其...
孙秋霞
关键词:电化学阻抗谱薄膜电极
文献传递
阻抗谱定量分析金属/有机涂层界面粘接力被引量:24
2004年
采用传输线类型的CR电路解析阻抗谱得到离散的电容参数,它们随离散特征频率变化的线性区间斜率与有机涂层/金属界面的瞬时脱层速率有关,不受缺陷位置腐蚀产物的影响,重现性好.建立了阻抗谱与粘结力的定量关系和数据处理方法,并进行了验证,说明了精度较高的原因.用硅烷直接预处理,或者磷化、热浸锌后再处理,会明显影响A3钢与环氧粉末涂层之间的粘结力.
孙秋霞张鉴清林昌健
关键词:阻抗谱传输线A3钢
CR传输线解析EIS表征杯芳烃离子选择电极
2010年
电化学阻抗谱(EIS)是表征电化学体系特征及其过程机理的重要技术,但解谱模型不一致限制了其应用.为此,采用CR传输线模型中的8CRR等效电路拟合文献报道的杯[4,8,12]芳烃离子选择电极与Na+、Ca2+及Fe3+作用的EIS;并根据电荷转移电阻、表面吸附、扩散阻力和空间电荷层电容等不同特征,揭示了作用机理的共性与差异.结果表明,所采用的方法可操作性强,结果客观,具有一定的理论和应用价值.
孙秋霞
关键词:电化学阻抗谱杯芳烃离子选择电极
导电高分子聚苯胺在金属防腐中的研究进展被引量:9
2001年
综述了导电高分子聚苯胺及其衍生物在金属防腐方面的研究进展,总结了目前所提出的防腐机理,并对其应用前景作了展望。
王金库孙秋霞林薇薇
关键词:导电高分子聚苯胺金属防腐防腐涂料缓蚀剂
阻抗谱过程阻力与Ni-Cd电池荷电量之间的关系研究被引量:6
2010年
电化学阻抗谱(EIS)是研究电池的重要技术之一,但解谱模型不一致限制了其应用.为此,探讨了输线模型的阻力特征,提出其串联分支电阻和电容的比值Ri/Ci与电池荷电量(SOC)存在单调关系;并通过重新拟合分析文献中镍镉电池的阻抗谱数据进行了验证.结果表明,可以根据误差分析确定CR传输线模型的最佳结构,且Ri/Ci与SOC存在近似直线关系,并与电池质量密切相关.
孙秋霞梁剑波苏铭鸿
关键词:电化学阻抗谱
CR传输线模型解析电化学阻抗谱及其应用
本文旨在探讨CR传输线模型(CRM)解析电化学阻抗谱(EIS)的理论基础和应用方法。根据实例说明普适性CRM能够取代不同体系的多种模型,从不同角度客观揭示体系的界面粘结力、过程阻力、电池荷电量、吸附、空间电荷层电容、平带...
孙秋霞
关键词:电化学阻抗谱平带电位缓蚀剂
文献传递
共2页<12>
聚类工具0