您的位置: 专家智库 > >

宋贵宏

作品数:78 被引量:148H指数:6
供职机构:沈阳工业大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金辽宁省博士科研启动基金辽宁省教育厅高等学校科学研究项目更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术理学化学工程更多>>

文献类型

  • 49篇期刊文章
  • 22篇专利
  • 5篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 25篇金属学及工艺
  • 18篇一般工业技术
  • 12篇理学
  • 7篇化学工程
  • 2篇电子电信
  • 2篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇建筑科学
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇文化科学

主题

  • 23篇电弧离子镀
  • 23篇离子镀
  • 18篇合金
  • 12篇SEEBEC...
  • 9篇金刚石膜
  • 8篇复合膜
  • 7篇硬质
  • 6篇涂层
  • 6篇热电性能
  • 6篇耐蚀
  • 6篇耐蚀性
  • 6篇类金刚石
  • 6篇类金刚石膜
  • 6篇溅射
  • 6篇防护膜
  • 5篇热电材料
  • 5篇镁合金
  • 5篇膜层
  • 4篇电镀
  • 4篇镀层

机构

  • 63篇沈阳工业大学
  • 26篇中国科学院金...
  • 10篇沈阳大学
  • 4篇沈阳市红十字...
  • 3篇广东腐蚀科学...
  • 1篇东北师范大学
  • 1篇昆明冶金高等...
  • 1篇沈阳理工大学
  • 1篇五邑大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇上海电子信息...
  • 1篇沈阳蓄电池研...
  • 1篇华友钴业股份...

作者

  • 77篇宋贵宏
  • 30篇陈立佳
  • 17篇李锋
  • 16篇杜昊
  • 14篇胡方
  • 10篇孙超
  • 9篇贺春林
  • 8篇闻立时
  • 8篇肖金泉
  • 6篇黄荣芳
  • 6篇邹友生
  • 5篇吴玉胜
  • 5篇赵彦辉
  • 5篇娄茁
  • 5篇宫骏
  • 5篇熊天英
  • 4篇李德高
  • 4篇熊焰
  • 4篇金弢
  • 3篇迟松江

传媒

  • 7篇沈阳工业大学...
  • 7篇人工晶体学报
  • 4篇金属学报
  • 4篇材料研究学报
  • 3篇材料保护
  • 3篇表面技术
  • 3篇稀有金属
  • 3篇真空
  • 2篇材料科学与工...
  • 2篇稀有金属材料...
  • 2篇功能材料
  • 1篇钢铁研究学报
  • 1篇理化检验(物...
  • 1篇电镀与涂饰
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇中国腐蚀与防...
  • 1篇沈阳大学学报...
  • 1篇中国材料科技...
  • 1篇Transa...
  • 1篇教育教学论坛

年份

  • 3篇2024
  • 3篇2023
  • 6篇2022
  • 4篇2021
  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 3篇2018
  • 2篇2017
  • 1篇2016
  • 6篇2015
  • 4篇2014
  • 4篇2013
  • 5篇2012
  • 4篇2011
  • 3篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 3篇2007
  • 2篇2006
  • 1篇2005
78 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
TiAl过渡层对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响被引量:18
2004年
利用电弧离子镀 ,在不锈钢和SiCp 增强 2 0 2 4铝基复合材料基底上沉积TiAlN薄膜。结果表明 :TiAlN膜层直接沉积在不锈钢基底上 ,膜层呈 [111]择优取向 ;然而 ,TiAlN膜层沉积在不锈钢基底的TiAl过渡层上 ,膜层呈 [2 2 0 ]方向择优取向 ;并且随着过渡层从零开始增厚 ,TiAlN膜层的织构系数T(111)逐渐减小 ,而T(2 0 0 )逐渐增大 ,但膜层一直以 [2 2 0 ]方向择优取向 ,内应力的存在可能是膜层产生 [2 2 0 ]方向择优取向的原因。在复合材料基底TiAl过渡层上沉积 ,随着负脉冲偏压的增加 ,TiAlN膜层的择优取向由 [111]向 [2 0 0 ]转变。在不锈钢基底上 ,没有TiAl过渡层时 ,膜层表面相对光滑 ,大颗粒较少 ;有了TiAl过渡层 ,表面大颗粒较多 ;TiAl过渡层不同沉积时间对膜层表面影响不大 ,颗粒尺寸相差无几。没有TiAl过渡层时 ,膜层结合强度很差 ,有了TiAl过渡层 ,结合强度明显增加 ,但结合强度的大小随过渡层沉积时间 (厚度 )变化。
宋贵宏郑静地刘越孙超
关键词:TIAL过渡层各向异性内应力复合材料
电弧离子镀沉积富碳的TiC薄膜研究
本文研究了电弧离子镀沉积的富碳TiC薄膜.结果表明,在腔体内H<,2>和C<,2>H<,2>气体流量比为1/2和1/1时,两沉积膜层的C和Ti的原子百分比远远超过1/1,分别为7.42/22.5和85.77/14.23....
宋贵宏邹友生陈立佳李锋王启民宫骏孙超
关键词:复合膜层离子镀类金刚石膜
铜合金表面激光熔覆技术的研究现状被引量:5
2022年
激光熔覆具有能量密度高、热影响区小、熔覆层与基体冶金结合、熔覆层组织致密、晶粒细小及性能优异等特点,被广泛应用于铜合金的表面强化。简要介绍了铜合金的性能以及激光熔覆技术对铜合金进行表面改性的优势,重点综述了制备工艺和熔覆层粉末体系对铜合金表面熔覆层的形貌、组织以及性能的影响,总结了铜合金激光熔覆的应用,并对今后的研究方向进行了展望。
杨杰贺春林孙宇海漩池坪礁杨锡芃于济豪宋贵宏
关键词:铜合金激光熔覆微观结构
一种镁合金表面上无氰电镀金属层的方法
一种镁合金表面上无氰电镀金属层的方法,该方法包括去氢、脱脂、出光、预镀、镀功能金属层和后处理工序,每两道工序之间需对零件进行流水冲洗,所述的预镀是在镁合金表面预镀一层含锌合金层,该合金含30at%~80at%铝,余量为锌...
宋贵宏李德高陈立佳李锋
Cu含量对TiN-Cu复合膜的微观结构与性能的影响
利用电弧离子镀技术,采用不同Cu含量的Ti-Cu合金靶和调整脉冲负偏压值,制备了不同Cu含量的TiN-Cu纳米复合膜,并对制备的薄膜的表面形貌、横截面形貌、能谱、微观结构、Cu含量和显微硬度进行了研究。结果显示,制备的薄...
宋贵宏张晶晶杨肖平李锋陈立佳贺春林
关键词:CU含量脉冲偏压
镁合金表面制备硬质防护膜的方法
本发明提供一种镁合金表面制备硬质防护膜的方法,其特征在于:先采用电弧离子镀,选择高纯Cu靶和使用Ar气作为工作气体,沉积金属Cu层;然后通过电镀,沉积金属Ni层;最后通过电弧离子镀,选择高纯高纯Cr靶,使用高纯Ar气和N...
宋贵宏熊光连陈立佳
C2H2/H2比率对铝合金上电弧离子镀类金刚石膜的结构和腐蚀性能的影响
2006年
本文研究了在2024铝合金衬底上,环境气氛中C2H2/H2比率对电弧离子镀沉积类金刚石膜层的结构和腐蚀性能的影响。Raman谱分析表明,随着C2H2/H2比率的降低,其D峰和G峰的强度比ID/IG值增加,这意味着膜层中sp^3/sp^2键比率减少,膜层的力学性能下降;同时,G峰的峰位向高波数方向移动,峰的半高宽变窄;D峰的峰位也在向高波数方向移动变化,但峰的半高宽变化相反,逐渐宽化。膜层可以进一步提高铝合金试样的抗腐蚀能力,从自腐蚀电位看,随着C2H2/H2比率的降低,膜层试样的抗腐蚀性能略逐渐增加。
宋贵宏邹友生李锋陈立佳宫骏孙超
关键词:类金刚石膜电弧离子镀环境气氛RAMAN谱
溅射沉积掺Ag的SnSe薄膜的微结构和热电性能被引量:1
2020年
使用粉末烧结SnSe合金靶高真空磁控溅射制备掺杂Ag的SnSe热电薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS)等手段分析薄膜的相组成、表面形貌、截面形貌、微区元素含量和元素分布,利用塞贝克系数/电阻分析系统LSR-3测量沉积薄膜的电阻率和Seebeck系数,研究了不同Ag含量SnSe薄膜的热电性能。结果表明,采用溅射技术可制备出正交晶系Pnma结构的SnSe相薄膜,掺杂的Ag在薄膜中生成了纳米Ag3Sn。与未掺杂Ag相比,掺杂Ag的SnSe薄膜其电阻率和Seebeck系数(绝对值,下同)明显减小。并且在一定掺杂范围内,掺杂Ag越多的薄膜电阻率和Seebeck系数越小。未掺杂Ag的SnSe薄膜样品,其Seebeck系数较大但是电阻率也大,因此功率因子较小。Ag掺杂量(原子分数)为7.97%的样品,因其Seebeck系数绝对值较大而电阻率适当,280℃时的功率因子最大(约为0.93 mW·m^-1·K^-2),比未掺杂Ag的样品(PF=0.61 mW·m^-1·K^-2)高52%。掺杂适量的Ag能提高溅射沉积的SnSe薄膜的热电性能(功率因子)。
李贵鹏宋贵宏胡方杜昊尹荔松
关键词:材料表面与界面热电材料SEEBECK系数
电弧离子镀氧化铬涂层的组织结构及硬度被引量:19
2003年
采用电弧离子镀方法在不锈钢基体上沉积Cr2O3薄膜.研究了氧流量和脉冲偏压对薄膜相结构、沉积速率、表面形貌、薄膜硬度的影响.结果表明,氧流量和脉冲偏压对薄膜的相结构有较大的影响.在氧流量为130 cm3/s、脉冲偏压为-100V时,出现Cr2O3{001}面择优取向;氧流量增高,脉冲偏压增大时,薄膜的表面形貌得到改善;在脉冲偏压为-200 V、氧流量为130 cm3/s时,可获得符合Cr2O3化学计量比的薄膜,其硬度达到36 GPa.
纪爱玲汪伟宋贵宏汪爱英孙超闻立时
关键词:电弧离子镀脉冲偏压
Microstructure and indentation toughness of Cr/CrN multilayer coatings by arc ion plating被引量:5
2015年
Cr/CrN multilayer coatings with bilayer periods in the range from 1351 to 260 nm were prepared on 304 stainless steel substrates by arc ion plating to study the microstructure and properties of multilayer coatings and stimulate their application.SEM results confirm the clear periodicity of the Cr/CrN multilayer coatings and the clear interface between individual layers.XRD patterns reveal that these multilayer coatings contain Cr,CrN and Cr_2N phases.Because Cr layer is softer than its nitride layer,the hardness decreases with the shortening of the bilayer period(or increasing volume fraction of Cr layer).The Cr/CrN multilayer coating with 862 nm period possesses the highest indentation toughness due to a proper individual Cr and nitride layer thickness.However,for the Cr/CrN multilayer with the bilayer period of 1351 nm,it possesses the lowest toughness due to more nitride phase.The indentation toughness of Cr/CrN multilayer coatings is related with their bilayer period.A coating with a proper individual Cr and nitride layer thickness possesses the highest indentation toughness.
宋贵宏娄茁李锋陈立佳贺春林
关键词:HARDNESS
共8页<12345678>
聚类工具0