马向国
- 作品数:68 被引量:199H指数:8
- 供职机构:北京物资学院物流学院更多>>
- 发文基金:北京市社会科学基金北京市教育委员会科技发展计划北京市优秀人才培养资助更多>>
- 相关领域:电子电信自动化与计算机技术经济管理电气工程更多>>
- PIC单片机在瓦斯报警设备中的应用
- 2006年
- 本文简要介绍了在单片机世界里日益成为主流产品的PIC单片机,并把它应用到瓦斯检测设备中的实际设计中,给出了系统硬件、软件、及电磁兼容性的设计方法。实践证明该系统性能稳定,抗干扰能力强,测量精度高,具有较高的实用价值。
- 马向国刘同娟
- 关键词:瓦斯检测报警器PIC单片机
- 聚焦离子束装置中的图形发生器
- 2007年
- 聚焦离子束技术(FIB)是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。几十年来,随着关键技术的不断突破和完善,达到了前所未有的发展,所突破的关键技术之一就是图形发生器的使用。
- 马向国刘同娟顾文琪
- 关键词:聚焦离子束图形发生器微纳加工
- 纳米聚焦离子束系统液态金属离子源的研制
- 本文叙述了为纳米聚焦离子束装置研制的镓液态金属离子源的制备.发射尖的腐蚀采用自主开发的一套发射尖腐蚀设备腐蚀而成,该设备保证了源尖腐蚀工艺的可靠性和可重复性,腐蚀后的发射尖曲率半径在0.5~5μm之间.液态金属储备槽采用...
- 马向国顾文琪
- 关键词:液态金属离子源超大规模集成电路
- 文献传递
- 液态金属离子源发射系统的仿真分析被引量:1
- 2007年
- 液态金属离子源的发射系统是源设计当中一个十分重要的因素,它的性能的优劣将直接影响到整个离子源的发射特性,进而影响整个聚焦离子束设备的工作性能。因而,在离子源的设计过程中,人们希望通过仿真手段得到影响源发射特性的源几何尺寸参量,以便在液态金属离子源设计时抓住主要参量进行优化设计,从而提高源的发射性能。本文首先用模拟电荷法计算了发射系统的电场,然后用蒙特卡罗方法在模拟发射离子的初始位置和初始速度的基础上,计算了离子轨迹。并通过对大量离子轨迹的统计计算,得出能散、角电流密度和虚源尺寸的特性曲线,从而为分析离子源性能以及设计离子源提供了一个有效的辅助工具。
- 马向国刘同娟顾文琪
- 关键词:液态金属离子源模拟电荷法蒙特卡罗方法
- 液态金属离子源发射尖的制备工艺与技术
- 2004年
- 发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。通过对系统软件和硬件的设计,开发了一套发射尖自动腐蚀装置,该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制,实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性,从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具。
- 马向国顾文琪
- 关键词:聚焦离子束
- 配送中心不同分拣策略的仿真优化被引量:3
- 2013年
- 利用Flexsim仿真软件对物流配送中心及分拣策略的仿真分析与优化进行研究,针对A企业配送中心的分拣系统,充分考虑了分拣人员分工与订单可否并行处理这两个维度,提出了四种分拣策略,对四种方案分别进行仿真,对其分拣效率进行综合比较,最后确定出此案例的优势策略,并分析影响各方案分拣效率的关键因素,进而提出相应的改善方案。
- 刘同娟马向国
- 关键词:配送中心FLEXSIM仿真
- 基于PIC单片机的无线射频遥控窗帘器被引量:4
- 2005年
- 本文介绍了一款使用微处理器管理的,红外遥控器控制的多功能窗帘控制器。
- 马向国刘同娟
- 关键词:PIC单片机射频红外遥控器无线射频窗帘微处理器
- PIC单片机在干式变压器智能温控器中的应用
- 2004年
- 简要介绍了在单片机世界日益成为主流产品的PIC单片机,并把它应用到干式变压器智能温控器的实际设计中,给出了系统硬件、软件及电磁兼容性的设计方法。实践证明该系统的性能稳定,抗干扰能力强,测量精度高,具有较高的实用价值。
- 马向国顾文琪胡泳芬
- 关键词:温度干式变压器PIC单片机
- Multisim在电力电子电路仿真中的应用被引量:6
- 2006年
- 随着电力电子技术的不断发展,电力电子电路在直流电动机控制、可变直流电源、高压直流输电、电化学加工处理方面得到广泛的应用。本文基于电子电路仿真软件Multisim7.0,建立了单相桥式全控电路、三相桥式不控整流电路以及Boost电路的动态仿真模型,给出了仿真实例,验证了模型的正确性,并证明了该模型具有快捷、灵活、方便、直观等一系列优点,从而为电力电子电路的教学及设计提供了一个有效的辅助工具。
- 刘同娟马向国
- 关键词:整流电路电力电子MULTISIM计算机仿真
- 纳米聚焦离子束系统液态金属离子源的研制
- 叙述了为纳米聚焦离子束装置研制的镓液态金属离子源的制备。发射尖的腐蚀采用自主开发的一套发射尖腐蚀设备腐蚀而成,该设备保证了源尖腐蚀工艺的可靠性和可重复性,腐蚀后的发射尖曲率半径在0.5-5μm之间。液态金属储备槽采用同轴...
- 马向国顾文琪
- 关键词:聚焦离子束液态金属离子源
- 文献传递