国家自然科学基金(19735004)
- 作品数:20 被引量:43H指数:4
- 相关作者:王震遐赵子强郝建奎俞国庆王玟珉更多>>
- 相关机构:北京大学中国科学院华东师范大学更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金中国科学院重点实验室基金中国科学院科学基金更多>>
- 相关领域:理学电子电信一般工业技术核科学技术更多>>
- 团簇粒子源及其应用
- 2002年
- 介绍了蒸发、溅射产生团簇的原理以及通过调节参数得到不同大小的团簇材料 ,阐述了团簇的基本结构和性质 ,并介绍了团簇在镀膜及功能膜如光学膜磁性膜方面的应用。
- 赵子强
- 关键词:蒸发溅射
- 电子辐照诱发固态相变导致的氮化硼纳米结构生长被引量:4
- 2002年
- 报道了N+离子轰击产生的氮化硼 (BN)纳米结构 ,及在电子辐照时结构演化的高分辨透射电子显微镜的原位测定结果 .应当强调的是 ,这种类 富勒烯和发夹结构的演化 ,实际上是电子辐照诱发固态相变的发展 ,观察中发现的一些BN颗粒、卷曲物 ,可以被认为是类 富勒烯等纳米结构形成的前体或早期阶段 .提出了一种类 富勒烯等结构的电子辐照动力学模型 ,并进行了讨论 .
- 王震遐李学鹏余礼平马余刚何国伟胡岗陈一段晓峰
- 关键词:氮化硼电子辐照透射电子显微镜固态相变
- 团簇结构、性质及材料
- 本文介绍用核技术对离子微团簇立体结构,团簇与固体相互作用,及团簇形成新材料研究的一些新结果。
- 缪竞威杨百方师勉恭唐阿友许祖润杨朝文郑思孝刘仲阳李萍朱德彰徐洪杰潘浩昌朱志远王震遐赵子强王晶晶
- 关键词:团簇结构核间距
- 高增益自由电子激光光阴极注入器驱动激光系统设计考虑
- 2002年
- 高增益自由电子激光对电子束团提出了高品质要求 ,只有光阴极微波电子枪能够达到这一目标。光阴极微波电子枪的驱动激光器是这一系统的关键之一。北京大学重离子物理研究所设计的驱动激光系统的指标是提供 2 6 0nm、6~ 8ps宽、5 0 0 μJ的激光脉冲。系统主要由半导体泵浦的钛蓝宝石振荡器、Nd∶YAG调Q泵浦源、再生式放大器、倍频器等组成。系统中采用了腔长调整锁模技术以及相位稳定反馈装置 ,目的是使激光脉冲的时间抖动小于 1 0 ps。
- 鲁向阳向蓉赵夔王莉芳全胜文郝建奎张保澄陈佳洱
- 关键词:光阴极注入器光阴极微波电子枪驱动激光器
- Ar^+离子束轰击在石墨表面形成六方金刚石纳米晶的研究被引量:5
- 2000年
- 在 0 .6keVAr+高剂量 (~ 10 2 2 /cm2 )辐照石墨表面 ,借助于高分辨透射电子显微镜 (HRTEM ) ,发现有六方金刚石纳米晶产生 .它们的平均直径介于 1— 5 0nm之间 ,而且晶粒个数约随其直径的增大而直线减少 .有趣的是 ,晶粒具有两种结构模式 :直径小于 10nm的晶粒为单晶结构 ,而直径大于 10nm的为多晶结构 .基于受离子轰击过程特点制约的六方金刚石晶粒成核和成长观点 。
- 王震遐俞国庆阮美龄朱福英朱德彰潘浩昌徐洪杰
- 关键词:离子轰击氩离子石墨
- Co-Ag嵌埋团簇薄膜的磁性研究被引量:6
- 2000年
- 用蒸发共沉积方法制备了Co -Ag磁性嵌埋团簇薄膜 ,并用透射电子显微镜 (TEM )、背散射 (RBS)、交变梯度磁强计等技术对团簇的形貌、结构、粒径和磁性能进行了研究。用此方法制备出的嵌埋团簇分布均匀 ,粒径大小可控 ,基本无自聚集效应 ,而且能够防止氧化 ;它的磁性能随粒径成规律性变化。
- 杜庆立赵子强韩朝晖
- 关键词:磁性尺寸效应
- 全文增补中
- 硅团簇Si_n^+(n=1—3)注入Si单晶性质的研究
- 2002年
- 利用硅团簇Si+ n(n=1— 3 )注入Si单晶 ,在Si单晶内形成一些单空位和双空位 ,通过其光吸收谱观察到了带电状态为V02 的双空位缺陷 ,以及团簇效应对缺陷的影响 。
- 赵子强
- 关键词:团簇离子光吸收谱
- 团簇沉积C-N薄膜的研究被引量:2
- 2001年
- 利用荷能团簇沉积装置在高阻硅 ( 111)衬底上沉积了碳氮薄膜。通过红外光谱、拉曼谱和X光电子能谱对薄膜的结构和化学组分进行了分析。结果表明 ,薄膜中存在N -sp3C( β -C3N4 的键合方式 ) ,但以N -sp2 C和C =C双键的结合方式为主。
- 陈景升俞国庆张志滨潘浩昌朱德彰徐洪杰郑志豪阎逢元
- 关键词:碳氮薄膜硅基底光谱
- C_(20)富勒烯的Ar^+离子辐照合成被引量:7
- 2000年
- Ar+ 离子辐照聚乙烯靶表面在室温情况下合成的C2 0 ,已采用高分辨率透射电子显微镜 /电子衍射装置、飞行时间质谱、红外和拉曼谱仪进行了研究 .结果认为 ,辐照诱发的微晶体由笼式C2 0
- 王震遐柯学志朱志远朱福英王玟珉俞国庆阮美龄陈宏黄荣彬郑兰荪
- 关键词:富勒烯
- 碰撞能量对荷能团簇碰撞沉积TiN薄膜的结构、形貌及摩擦学特性的影响被引量:3
- 2000年
- 在室温下,以硅(100)为衬底,在不同的衬底偏压(即团簇不同碰撞能量)的条件下,用荷能团簇碰撞沉积方法制备了TiN薄膜。用原子力显微镜和X射线衍射等技术对TiN薄膜的表面形貌和结构进行了研究,并且在维式硬度计和SRV微动摩擦磨损试验机上对其摩擦学性能进行了考察。结果表明,在低的偏压情况下,团簇比较松散地堆积在衬底上;而在高偏压时团簇和衬底碰撞破碎,形成附着力强、致密性好及表面非常光滑的薄膜;在一定的偏压范围内,TiN薄膜是(220)择优取向,TiN薄膜具有较高的硬度、较低的摩擦系数和较好的耐磨损性能。
- 陈景升俞国庆潘浩昌朱德彰徐洪杰郑志豪阎逢元
- 关键词:形貌摩擦学性能TIN薄膜ECI