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贵州省科学技术基金(J20102002)
作品数:
1
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相关作者:
郝正同
杨子义
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Si基薄膜的X射线衍射表征研究
2010年
简述了X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD)的基本原理,计算了硅晶体的消光特性,从理论上研究了Si基薄膜XRD表征的特征。研究结果表明:由于薄膜的择优生长,Si基薄膜XRD谱与粉晶XRD谱存在差异;并可能观测到Si基片的二级衍射峰。研究结果在实际应用中对分析硅基薄膜的晶体结构具有重要意义。
郝正同
杨子义
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X射线衍射
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