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基于SiGe BiCMOS工艺的8 GS/s采样保持电路
2024年
为实现数字通信对高速模数转换器的要求,基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺提出了一款8 GS/s采样率、6 bit的采样保持电路。电路采用全差分开环结构,利用射极跟随型采样开关实现了电路高采样率。采样开关中采用晶体管线性补偿技术,有效地提高了采样保持电路的线性度。输出缓冲电路采用级联结构实现高线性度,并提高了电路的驱动能力。测试结果发现,在采样模式下单端输入信号频率4 GHz、采样时钟频率8 GHz条件下,有效位数为5.4 bit,无杂散动态范围为37.6 dB,总谐波失真为37.5 dB,总功耗为450 mW,芯片尺寸为0.68 mm×0.68 mm。
李飞吴洪江龚剑曹慧斌
关键词:采样保持电路
基于SiGe BiCMOS的全集成射频功率放大器设计
2024年
提出了一种基于SiGe BiCMOS工艺的适用于移动设备的紧凑全集成功率放大器.设计采用cascode驱动级与共发射极功率级级联以提高放大器的功率增益,片上集成CMOS电源以提供偏置电流,采用分布式的镇流电阻和具有热负反馈效果的偏置电路补偿结温以防止放大器在高温工作时失效,并且采用一种紧凑的电路级的热耦合模型对所提出的热稳定措施进行仿真验证.后仿结果表明:PA在3.3 V供电下、2.4~2.5 GHz的工作范围内输出增益为32.5 dB,S11&S22<-10 dB,1 dB压缩点处的输出功率为25.4 dBm,在25℃的环境温度下最高结温小于65℃(饱和).芯片面积仅为1.25×0.76 mm^(2).测试结果表明:在-45~85℃的工作环境下,可以在增益要求为26.5~32.9 dB的应用中正常工作.1 dB压缩点处的输出功率为24.3 dBm.采用20 MHz 64-QAM OFDM信号测试,DEVM达到-30 dB的输出功率为18.1 dBm.
傅海鹏项德才
关键词:功率放大器异质结双极晶体管
A V-band high-linearity BiCMOS mixer with robust temperature tolerance
2024年
A high-linearity down mixer with outstanding robust temperature tolerance for V-band applications is proposed in this paper.The mixer’s temperature robustness has been greatly enhanced by employing a negative temperature-compensation circuit(NTC)and a positive temperature-compensation circuit(PTC)in the transconductance(g_(m))stage and intermediate frequency(IF)output buffer,respectively.Benefiting from the active balun with enhanced g_(m)and emitter negative feedback technique,the linearity of the mixer has been significantly improved.For verification,a double-balanced V-band mixer is designed and implemented in a 130 nm SiGe BiCMOS process.Measured over the local oscillator(LO)bandwidth from 57 GHz to 63 GHz,the mixer demonstrates a peak conversion gain(CG)of−0.5 dB,a minimal noise figure(NF)of 11.5 dB,and an input 1 dB compression point(IP_(1 dB))of 4.8 dBm under an LO power of−3 dBm.Furthermore,the measurements of CG,NF,and IP_(1 dB)exhibit commendable consistency within the temperature range of−55℃to 85℃,with fluctuations of less than 0.8 dB,1 dB,and 1.2 dBm,respectively.From 57 GHz to 63 GHz,the measured LO-to-radio frequency(RF)isolation is better than 46 dB,the measured return loss at the RF port is>29 dB,and at the LO port it exceeds 12 dB.With a 2.5 V supply voltage,the mixer power consumption is 15.75 mW,18.5 mW,and 21 mW at temperatures of−55℃,25℃,and 85℃,respectively.Moreover,the mixer chip occupies a total silicon area of 0.56 mm2 including all testing pads.
Jiang LUOYizhao LIYao PENGQiang CHENG
关键词:V-BAND
SiGe BiCMOS低噪声放大器激光单粒子效应研究被引量:1
2024年
随着CMOS工艺的日益成熟和SiGe外延技术水平的不断提高,SiGe BiCMOS低噪声放大器(LNA)广泛应用于空间射频收发系统的第一级模块.SiGe HBT作为SiGe BiCMOS LNA的核心器件,天然具有优异的低温特性、抗总剂量效应和抗位移损伤效应的能力,然而,其瞬态电荷收集引起的空间单粒子效应是制约其空间应用的瓶颈问题.本文基于SiGe BiCMOS工艺低噪声放大器开展了单粒子效应激光微束实验,并定位了激光单粒子效应敏感区域.实验结果表明,SiGe HBT瞬态电荷收集是引起SiGe BiCMOS LNA单粒子效应的主要原因.TCAD模拟表明,离子在CMOS区域入射时,电离径迹会越过深沟槽隔离结构,进入SiGe HBT区域产生电子空穴对并引起瞬态电荷收集.ADS电路模拟分析表明,单粒子脉冲瞬态电压在越过第1级与第2级之间的电容时,瞬态电压峰值骤降,这表明电容在传递单粒子效应产生的瞬态脉冲过程中起着重要作用.本文实验和模拟工作为SiGe BiCMOS LNA单粒子效应抗辐射设计加固提供了技术支持.
李培董志勇郭红霞张凤祁郭亚鑫彭治钢贺朝会
关键词:低噪声放大器单粒子效应
基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺的4GS/s、14 bit数模转换器
2024年
基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺,设计了超高速高精度数模转换器(DAC),其时钟采样率为4 GS/s、精度为14 bit。为满足4 GHz处理速度,该DAC中所有电路均采用异质结晶体管(HBTs)搭建。为了降低功耗和节约面积,本设计采用10+4分段译码的方式,其中低10位电流舵使用R-2R梯形电阻网络,而高4位使用温度计码结构。仿真结果表明,所设计DAC的DNL、INL分别为0.54 LSB和0.39 LSB,全奈奎斯特频域内的无杂散动态范围均大于82 dBc。在3.3 V和5 V混合电源供电下,整个DAC的平均功耗为2.39 W。芯片总面积为11.22 mm^(2)。
张翼戚骞张有涛韩春林王洋张长春张长春
关键词:数模转换器电流舵
基于SiGe BiCMOS工艺下高速折叠内插ADC的设计与实现
李飞
一种基于标准双极器件的BiCMOS集成方法
本发明公开一种基于标准双极器件的BiCMOS集成方法,步骤为:1)在衬底上形成A个埋层区和多个隔离区。2)形成场区。3)形成第一基区和第二基区。4)利用掩膜图形刻蚀第一栅氧层,再次氧化生长第二栅氧层和第三栅氧层,形成厚薄...
林成鹏刘青刘建甘和红税国华阚玲杨法明李光波龚榜华陆泽灼殷万军张金龙
基于BiCMOS工艺的低相噪低功耗锁相环的设计
谢贤秋
基于SiGe BiCMOS W波段混频器设计
2023年
基于130nm SiGe BiCMOS工艺,本文采用双吉尔伯特单元结构设计了一款高线性度的下变频混频器。在混频器的跨导级加入退化电感提高混频器的线性度,并且在中频输出端使用有源双转单电路,实现单端输出并提供增益。版图仿真结果表明,在本振功率为4dBm时,转换增益为4.89dB,噪声系数为15.44dB,在本振信号为90G,射频信号为91G时,输入1dB压缩点P1dB为-0.02dBm,在3.3V的工作电压下,工作电流为14.1mA,功耗为46.53mW。
陈翔周春霞程国枭吴文
关键词:W波段下变频混频器高线性度
一款BiCMOS工艺的低附加相移衰减器
2023年
采用0.18μm BiCMOS工艺,设计了一款工作频率为17~42 GHz的5位低附加相移、超宽带衰减器。小衰减单元采用简化的T型衰减结构,大衰减单元采用π型衰减结构,且每个衰减单元均采用电容和电阻并联的方式对附加相移进行补偿。测试结果表明,在17~42 GHz频带范围内,该衰减器的衰减动态范围为0~20 dB,衰减步进为0.5 dB,衰减误差均方根小于0.5 dB,附加相移为-1.25°~1.00°,芯片尺寸为220μm×95μm。
张超陈奇超叶乔霞高海军
关键词:衰减器

相关作者

张鹤鸣
作品数:478被引量:272H指数:9
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:应变SI BICMOS 双极器件 多晶 光刻
胡辉勇
作品数:471被引量:196H指数:7
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:应变SI BICMOS 双极器件 多晶 光刻
宋建军
作品数:362被引量:110H指数:6
供职机构:西安电子科技大学微电子学院
研究主题:应变SI BICMOS 双极器件 多晶 光刻
郝跃
作品数:2,547被引量:1,223H指数:13
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:势垒层 电极 场板 高电子迁移率晶体管 氮化镓
宣荣喜
作品数:334被引量:88H指数:5
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:应变SI BICMOS 双极器件 多晶 光刻