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AlGaN/GaN HEMT器件有效栅长和栅宽提取
2025年
有效栅长、有效栅宽和沟道电阻等AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)参数对于工艺控制和器件设计非常重要.基于AlGaN/GaN HEMT器件源漏之间的总电阻与栅长及栅宽的倒数之间的线性关系,提出了一种简单方法提取有效栅长和有效栅宽.制作了两组AlGaN/GaN HEMT器件,这两组器件的源漏间距为80μm,栅源间距为10μm.其中一组器件固定栅宽为400μm,栅长分别为10、20、30、40、50、60μm;另一组器件固定栅长为40μm,栅宽分别为200、300、400、500、600、800μm.通过研究源漏之间的总电阻随栅长和栅宽变化规律,获得栅长与有效栅长的差值为0.48989μm,栅宽与有效栅宽的差值为-11.12191μm.
吴淇暄张贺秋朱江宁思源代晓王子坤梁红伟
关键词:ALGAN/GAN高电子迁移率晶体管
包含嵌入层的增强型AlGaN/GaN HEMT器件
本发明公开了包含嵌入层的增强型AlGaN/GaN HEMT器件。包括自下而上层叠的硅衬底、成核层、缓冲层、P嵌入层、N嵌入层、沟道层、势垒层和钝化层,以及位于钝化层的两侧的源极和漏极,位于源极和漏极之间的p‑GaN层,位...
王颖冯博明刘军郭浩民
一种硅基AlGaN/GaN HEMT外延结构及制备方法
本发明公开了一种硅基AlGaN/GaN HEMT外延结构及制备方法,所述外延结构包括从下至上依次层叠的硅衬底、AlN缓冲层、阶梯AlGaN应力释放层、GaN晶种铺垫粗化层、GaN外延层、第一AlN插入层、第一C掺杂GaN...
王明洋宋占洋仇光寅刘勇邓雪华李国鹏
PNP型肖特基集电区AlGaN/GaN HBT器件及其制备方法
本发明公开了PNP型肖特基集电区AlGaN/GaN HBT器件,从下往上依次包括:衬底、埋氧层、集电区、基区以及发射区,所述集电区包括下层的P型单晶硅层以及上层的金属硅化物层,所述基区包括N型AlGaN层,所述发射区包括...
李迈克
NPN型肖特基集电区AlGaN/GaN HBT器件及其制备方法
本发明公开了NPN型肖特基集电区AlGaN/GaN HBT器件及制备方法,从下往上依次包括:衬底、埋氧层、集电区、基区以及发射区,所述集电区包括下层的N型单晶硅层以及上层的TiSi<SUB>2</SUB>层,所述基区包括...
李迈克
Failure mechanisms of AlGaN/GaN HEMTs irradiated by high-energy heavy ions with and without bias被引量:1
2025年
Gallium nitride(GaN)-based devices have significant potential for space applications.However,the mechanisms of radiation damage to the device,particularly from strong ionizing radiation,remains unknown.This study investigates the effects of radiation on p-gate AlGaN/GaN high-electron-mobility transistors(HEMTs).Under a high voltage,the HEMT leakage current increased sharply and was accompanied by a rapid increase in power density that caused"thermal burnout"of the devices.In addition,a burnout signature appeared on the surface of the burned devices,proving that a single-event burnout effect occurred.Additionally,degradation,including an increase in the on-resistance and a decrease in the breakdown voltage,was observed in devices irradiated with high-energy heavy ions and without bias.The latent tracks induced by heavy ions penetrated the heterojunction interface and extended into the GaN layer.Moreover,a new type of N_(2)bubble defect was discovered inside the tracks using Fresnel analysis.The accumulation of N_(2)bubbles in the heterojunction and buffer layers is more likely to cause leakage and failure.This study indicates that electrical stress accelerates the failure rate and that improving heat dissipation is an effective reinforcement method for GaN-based devices.
Pei-Pei HuLi-Jun XuSheng-Xia ZhangPeng-Fei ZhaiLing LvXiao-Yu YanZong-Zhen LiYan-Rong CaoXue-Feng ZhengJian ZengYuan HeJie Liu
一种与Si-CMOS工艺兼容的AlGaN/GaN异质结HEMT器件及其制作方法
本发明公开了一种与Si‑CMOS工艺兼容的AlGaN/GaN异质结HEMT器件及制作方法。该器件包括:AlGaN/GaN异质结外延层、钝化层、栅介质层、无金栅电极、无金源漏电极。所述AlGaN/GaN异质结外延层从下往上...
王洪周泉斌李祈昕
栅极几何结构对MIS栅结构常关p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响
2025年
高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)具有高速开关和极高击穿电场等特性,在功率器件领域应用广泛。为提高HEMT器件性能,通过实验研究了栅极几何结构对具有金属/绝缘体/半导体(MIS)栅极结构的常关型p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响。栅极介质层采用5 nm厚的原位生长AlN,AlN/p-GaN界面呈现出更明显的能带弯曲和更宽的耗尽区,有利于阈值电压向正向偏移,且其相对较宽的能带错位有助于抑制栅极电流。实验结果表明:与栅极非覆盖区长度为0μm和6μm的MIS栅极相比,非覆盖区长度为3μm的MIS栅极可提高器件综合性能,有效抑制正向栅极电流,将阈值电压提高至3 V,并较好地保持电流密度为46 mA/mm;栅极结构中两侧没有栅极覆盖的区域在导通过程和导通状态下均可引起较大的沟道电阻,且沟道电阻随着非覆盖区长度增加而上升。
都继瑶
一种增强型AlGaN/GaN HEMT器件
本发明公开了一种增强型AlGaN/GaN HEMT器件,所述器件包括:栅电极、p‑GaN层、源极、钝化层、漏极、势垒层、沟道层、缓冲层、成核层、衬底电极和超结型硅衬底;所述p‑GaN层嵌入所述钝化层直至与势垒层的上表面接...
王颖冯博明黄火林曹菲
一种N极性AlGaN-GaN异质结外延结构及其制备方法和应用
本发明公开了一种N极性AlGaN‑GaN异质结外延结构及其制备方法和应用。本发明的N极性AlGaN‑GaN异质结外延结构的制备方法包括以下步骤:1)确定N极性转换层中的掺杂元素种类;2)确定N极性转换层中的掺杂元素浓度;...
王文樑林正梁李国强林廷钧

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作品数:2,572被引量:1,236H指数:13
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作品数:842被引量:142H指数:6
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研究主题:电极 势垒层 高电子迁移率晶体管 栅电极 氧化镓
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研究主题:击穿电压 场板 ALGAN/GAN 淀积 ALGAN/GAN_HEMT
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研究主题:SUB 成核 势垒层 氮化镓 电极
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作品数:178被引量:89H指数:6
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:高电子迁移率晶体管 电极 ALGAN/GAN HEMT器件 势垒层