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- 非离子型表面活性剂
- 非离子型表面活性剂、属精细化工产品,主要用于石油化工,洗涤、农药乳化剂,皮革工业,造纸等行业,用途十分广阔。该型产品是更新换代产品。代表该厂的主要产品有壬基酚取氧乙烯醚,脂肪醇聚氧乙烯醚两大系列产品。
- 关键词:
- 关键词:乙烯基醚非离子表面活性剂
- 一种离子型表面活性剂生产方法
- 本发明涉及一种离子型表面活性剂生产方法,且公开了包括以下重量份数配比的原料:乳化剂15%‑20%、湿润剂10%‑15%、分散剂6%‑10%、缓蚀剂7%‑9%,所述乳化剂为辛基酚聚氧乙烯醚以及十二烷基二乙醇酰胺混合而成,其...
- 刘奎专
- 一种非离子型表面活性剂及其制备方法和应用
- 本发明提供一种非离子型表面活性剂及其制备方法和应用,所述非离子型表面活性剂具有式1所示的结构:<Image file="DDA0005013533980000011.GIF" he="273" imgContent="d...
- 李仁志 刘国 周昕志 王久龙 秦承群 郭凤娇
- 一种非离子型表面活性剂的制备方法及其应用
- 本发明公开了一种非离子型表面活性剂的制备方法及其应用,包括如下步骤:(1)将(9Z,13Z)‑18‑乙基二十碳酸‑9,13‑二烯酸甲酯、丁醇和第一催化剂混合后反应得到烯酸酯衍生物;(2)将上述烯酸酯衍生物、过氧化氢和磷钨...
- 黄永毅许一婷杨思雨余燕华郭鹏飞许泽城叶嘉峻李少彬戴李宗
- 用于非离子型表面活性剂的复配助剂制备控制方法
- 本发明公开了用于非离子型表面活性剂的复配助剂制备控制方法,涉及复配助剂制备技术领域,该方法包括:确定活性剂的复配助剂成分;按照助剂成分对活性剂的影响,输出助剂溶解度特征和浊点特征;建立注意力机制网络,获取助剂的复配操作温...
- 吴金海孔德宏张武艺
- 一种复合离子型表面活性剂及制备工艺
- 本发明涉及表面活性剂领域,具体涉及一种复合离子型表面活性剂及制备工艺,该制备工艺中,通过使用长链磺酰氯与苯反应得到长链磺酰基苯,然后将长链磺酰基苯与重烷基苯共同作为反应物,经过氯磺酸的磺化处理,最终得到长链苯磺酸盐,然后...
- 李永文丁志光白清贤杨洪孝
- 琥珀酸衍生物类非离子型表面活性剂的合成及性能评价
- 2024年
- 利用N-十二烷基琥珀酸酐、L-亮氨酸和聚醚醇为原料合成了两种非离子型表面活性剂,并通过核磁共振氢谱验证了分子结构;通过表面张力仪分别测试了两种非离子型表面活性剂在不同浓度下的表面张力,并根据γ-lgc曲线确定了临界胶束浓度;通过析水率研究了表面活性剂的乳化性能;使用分子动力学模拟技术,研究了表面活性剂在油水界面处的聚集形态以及与油和水之间的作用。结果表明,与表面活性剂1相比,表面活性剂2含更多的非离子亲水组分,因此降低表面张力效果更好;表面活性剂1及表面活性剂2的临界表面张力(γ_(CMC))分别为25.54、24.46 mN/m;在低浓度下,两种非离子型表面活性剂均具有较高的析水率,乳化效果不佳,但在高浓度下乳化效果较好,采用两种非离子型表面活性剂制备的乳液均具有一定的稳定性;表面活性剂分子的静电势分布影响了其亲水和亲油的性质。
- 罗凤张万年王锐王凯戴淑敏何宇鹏秦玉才
- 关键词:非离子型表面活性剂分子动力学模拟
- 阴/非离子型表面活性剂对CMP后SiO_(2)颗粒的去除效果
- 2024年
- 为了更有效地去除铜晶圆化学机械抛光(CMP)后清洗残留的SiO_(2)颗粒,选择了2种阴离子型表面活性剂(SLS、TD⁃40)和2种非离子型表面活性剂(AEO⁃5、JFC⁃6),通过接触角、表面张力、电化学、分子动力学模拟实验探究了4种表面活性剂在铜表面的润湿性、吸附构型及吸附稳定性。通过优化表面活性剂质量浓度,选择达到吸附稳定时的质量浓度配置4种表面活性剂来清洗铜晶圆,利用扫描电子显微镜观测铜表面形貌,对比它们的清洗效果。随后选择TD⁃40和JFC⁃6进行复配,研究复配后表面活性剂对硅溶胶颗粒的去除效果。实验结果表明,使用体积比为2∶1的TD⁃40与JFC⁃6进行复配得到的CMP清洗液对SiO_(2)颗粒的去除效果比单一表面活性剂的更好。
- 刘鸣瑜高宝红高宝红霍金向李雯浩宇贺斌
- 关键词:表面活性剂复配
- 一种同时测定离子型表面活性剂临界聚集浓度和临界胶束浓度的方法
- 本发明属于表面活性剂检测技术领域,提供了一种同时测定离子型表面活性剂临界聚集浓度和临界胶束浓度的方法。本发明的方法包含将离子选择电极和甘汞参比电极浸入待测体系,向待测体系滴加滴定剂溶液,记录滴定剂溶液的体积与对应的电位值...
- 薛伟 王俊伟
- 改性离子型表面活性剂及其制备方法、包含其的水基清洗剂以及水基清洗剂的应用
- 本申请涉及半导体硅料清洗技术领域,具体涉及一种改性离子型表面活性剂及其制备方法、包含其的水基清洗剂以及水基清洗剂的应用。本申请提供的改性离子型表面活性剂,其结构式如式1所示。本申请提供的水基清洗剂包括上述改性离子型表面活...
- 张梦晨杨小慧贺凯康肖肖孙杨李梦超