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磁控溅射靶
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相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
异型腔内壁蒸镀
磁控溅射
靶
系统
本发明异型腔内壁蒸镀
磁控溅射
靶
系统,涉及对超导加速腔体内壁
溅射
镀膜的高能脉冲
磁控溅射
领域。本发明包括适于装载超导加速腔体的真空机构、设于超导加速腔体内腔中的
磁控溅射
靶
机构和与
磁控溅射
靶
机构连接的驱动机构。本发明实现了环状...
董鹏
王艳江
赵洋
李军
磁控溅射
靶
冷却系统
本发明提供一种
磁控溅射
靶
冷却系统,
磁控溅射
靶
包括
靶
材和磁体,
磁控溅射
靶
冷却系统包括冷头和储液箱,冷头包括均温板,均温板设于
靶
材和磁体之间,均温板设有顶部具有开口的腔体,腔体具有进口和出口,储液箱用于盛放金属流体,进口和出...
乔梦文
田利丰
崔云涛
刘静
一种柱形
磁控溅射
靶
本实用新型涉及一种柱形
磁控溅射
靶
,包括:磁芯棒、
靶
头、
靶
材管;磁芯棒包括磁铁芯管和芯轴管,芯轴管长于磁铁芯管,磁铁芯管套设固定在芯轴管上,磁铁芯管与芯轴管同轴设置,磁铁芯管上设有磁铁组,磁铁组包括若干扇环形永磁铁,永磁铁...
向必忠
温海涛
谢玉生
一种
磁控溅射
靶
座及
磁控溅射
设备
本申请公开了一种
磁控溅射
靶
座及
磁控溅射
设备,涉及
靶
座技术领域。用于解决现有技术中
磁控溅射
靶
座为一体成型,从而增加了制造
磁控溅射
靶
座成本的问题。所述
靶
座包括
靶
座本体、导电环、封环和电源;
靶
座本体上开有镶嵌槽和安装腔,安装腔...
杨明
王子彤
解庆权
王刚
邢雪
刘畅
王磊
石也琛
一种矩形
磁控溅射
靶
以及
磁控溅射
装置
本发明公开一种矩形
磁控溅射
靶
以及
磁控溅射
装置,涉及
磁控溅射
技术领域。该矩形
磁控溅射
靶
包括底座组件、磁性组件、上盖和多块
靶
材,其中,底座组件,具有安装面。磁性组件设置于底座组件的安装面上。上盖盖设于磁性组件远离底座组件的一...
吴向方
梁玉生
吴煦
梁家禄
蔡豫
杨涛
母立民
一种
靶
面磁场分布宽度可调的平面
磁控溅射
靶
本发明涉及
磁控溅射
技术领域,具体涉及一种
靶
面磁场分布宽度可调的平面
磁控溅射
靶
,包括导磁座以及设置在导磁座上的
靶
材部件,还包括设置于导磁座以及
靶
材部件之间的磁体部件,磁体部件包括设置在导磁座上的中心磁体以及若干移动磁体组,...
朱国
刘文玉
杜琪鑫
黄坜平
一种平面
磁控溅射
靶
旋转装置及
磁控溅射
镀膜机
本实用新型公开了一种平面
磁控溅射
靶
旋转装置及
磁控溅射
镀膜机,该装置包括:第一齿盘;第二齿盘,与所述第一齿盘适配啮合,所述第一齿盘和所述第二齿盘上分别设置有平面
靶
,两个所述平面
靶
均位于所述第一齿盘、所述第二齿盘的同一侧;驱...
朱显君
沈聚丰
夏伟
马玉升
李龙哲
提高
靶
材利用率的
磁控溅射
靶
及控制方法、
磁控溅射
设备
本申请提出一种提高
靶
材利用率的
磁控溅射
靶
及控制方法、
磁控溅射
设备,该提高
靶
材利用率的
磁控溅射
靶
包括
靶
座、磁铁组件及多个检测传感器;所述
靶
座设有固定
靶
材的固定装置;所述磁铁组件设置于所述
靶
座内部,且与直流电源连接,所述直流...
郭挑远
一种上下端分别进出水的细长管内壁镀膜用的
磁控溅射
靶
本发明公开了一种上下端分别进出水的细长管内壁镀膜用的
磁控溅射
靶
,其包括
靶
头组件、
靶
管组件和尾座固定组件,
靶
头组件设有进水口、进水通道、进气口、连接气道、传动机构和转轴,传动机构连接在转轴上,尾座固定组件设有出水口和水接管...
李志方
冯晓庭
龙本洋
一种
磁控溅射
靶
本实用新型的
磁控溅射
靶
,其包括壳体、
靶
材、磁力件、极板、气体流道,
靶
材安装于壳体顶部的敞开口并架设在极板上,磁力件为电磁铁线圈,且通过安装座架设在壳体底部内侧,
磁控溅射
靶
还包括用于将安装座与极板绝缘隔开的绝缘隔垫,气体流...
缪同群
谢圣鸣
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张斌
作品数:199
被引量:126
H指数:7
供职机构:中国科学院兰州化学物理研究所
研究主题:磁控溅射 高功率脉冲 富勒烯 石墨烯 磁控溅射靶
张俊彦
作品数:429
被引量:592
H指数:12
供职机构:中国科学院兰州化学物理研究所
研究主题:摩擦学性能 摩擦学 富勒烯 石墨烯 性能研究
高凯雄
作品数:139
被引量:39
H指数:4
供职机构:中国科学院兰州化学物理研究所
研究主题:富勒烯 高功率脉冲 磁控溅射靶 离化 公度
强力
作品数:111
被引量:41
H指数:3
供职机构:中国科学院兰州化学物理研究所
研究主题:橡胶 碳基 高功率脉冲 橡胶基 磁控溅射靶
王健
作品数:21
被引量:28
H指数:3
供职机构:兰州理工大学石油化工学院
研究主题:磁控溅射靶 高功率脉冲 离化 物理气相沉积 离子源
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