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物理气相沉积机台
本申请实施例公开了一种物理气相沉积机台，射频线圈位于工艺腔体内侧和工艺套件之间，使得工艺腔体密封结构简单，并彻底解决电磁干扰的问题。工艺套件在内侧采用单层的法拉第笼结构的第一套件，有效降低法拉第笼结构对射频线圈产生的电磁...
王晓
一种物理气相沉积加热平台
本发明涉及应用于气相沉积加热领域的一种物理气相沉积加热平台，对晶圆进行沉积前，启动下驱动机驱动升螺旋输送管使加热后的金属粉末移动至承载槽的内部，并使位于承载槽内部的金属粉末的顶面距离晶圆0‑2mm，然后启动上驱动机驱动降...
顾泉
物理气相沉积系统与处理
本案揭示了一种物理气相沉积(PVD)腔室及其操作方法。描述了提供包括上屏蔽件的腔室的腔室和方法，所述上屏蔽件具有两个孔，两个孔被定位成允许从两个靶交替溅射。
肖文维布什·金达尔桑杰·巴特
一种物理气相沉积加热平台
本发明涉及应用于气相沉积加热领域的一种物理气相沉积加热平台，对晶圆进行沉积前，启动下驱动机驱动升螺旋输送管使加热后的金属粉末移动至承载槽的内部，并使位于承载槽内部的金属粉末的顶面距离晶圆0‑2mm，然后启动上驱动机驱动降...
顾泉
物理气相沉积反应室及其使用方法
本揭露的实施例为一种物理气相沉积反应室及其使用方法。物理气相沉积反应室的使用方法包含将基板移动至半导体处理腔室的基板支撑件上方，其中基板支撑件被沉积环环绕；执行沉积制程，沉积制程通过轰击半导体处理腔室内的靶材，使靶材的材...
范致中吴昇颖林明贤叶书佑
物理气相沉积设备的工艺技术分析
2024年
阐述基于微电子学科的洁净实验室特点,以安全为导向,分析物理气相沉积工艺特点、设备结构、重要参数,给出该设备的安全管理措施,以提升微电子实验室的安全防范能力和风险治理效果。
张晓欣何翔欣
关键词：物理气相沉积设备安全磁控溅射
物理气相沉积的腔室内电磁铁
物理气相沉积(PVD)腔室沉积具有高厚度均匀性的膜。PVD腔室包括电磁线圈，当用直流电力通电时，所述线圈可改变PVD腔室的处理区域的边缘部分中的等离子体。线圈设置在PVD腔室的真空容纳部分内并且位于PVD腔室的处理区域外...
布赖恩·T·韦斯特迈克尔·S·考克斯米罗斯拉夫·盖洛丁克什·索曼纳
一种inline式物理气相沉积溅射系统
本实用新型提供了一种inline式物理气相沉积溅射系统，其载台、玻璃基板及搬运装置设置在溅射腔室内，玻璃基板位于载台上；搬运装置包括第一固定磁铁、第二固定磁铁、第一电磁线圈和第二电磁线圈，二第一固定磁铁设置在载台底部两侧...
伍丰伟
一种物理气相沉积用双面镀膜载板
本发明公开了一种物理气相沉积用双面镀膜载板，属于真空镀膜技术领域。它包括在载板上镂空形成的多个基板放置区，所述基板放置区上下两面均设有开口；至少两个所述基板放置区之间设有穿过载板的通孔；所述通孔的端部相邻于基板放置区一侧...
赵宇董刚强郁操冉孝超张永胜
一种用于物理气相沉积的零件镀膜夹具
本实用新型公开了一种用于物理气相沉积的零件镀膜夹具，包括真空室放置台和安装板，所述真空室放置台上对称固接有两个固定杆，且安装板上开设有与固定杆对应的固定槽，且固定杆的两端分别开设有卡接槽，所述固定槽的内壁上设置有与卡接槽...
何淑英冯嘉荔钟兴进罗长诚
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宫声凯
作品数：492被引量：1,229H指数：19
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研究主题：热障涂层 电子束物理气相沉积 单晶高温合金 陶瓷层 单晶合金
郭洪波
作品数：238被引量：593H指数：14
供职机构：北京航空航天大学
研究主题：热障涂层 电子束物理气相沉积 陶瓷层 等离子物理 粘结层
徐惠彬
作品数：584被引量：1,282H指数：19
供职机构：北京航空航天大学
研究主题：热障涂层 电子束物理气相沉积 形状记忆合金 陶瓷层 磁致伸缩
彭徽
作品数：113被引量：176H指数：8
供职机构：北京航空航天大学
研究主题：电子束物理气相沉积 热障涂层 电子束 单晶高温合金 叶片
赫晓东
作品数：795被引量：1,774H指数：23
供职机构：哈尔滨工业大学
研究主题：燃烧合成 复合材料 石墨烯 SUB 陶瓷