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平面研磨
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排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
平面
研磨
方法
本发明是一种晶圆的
平面
研磨
方法,在该方法中,准备具有第1主面及第1主面相反侧的第2主面,且包含位于第1主面与第2主面之间的边缘部的晶圆,将脱模剂涂布在晶圆的第2主面的一部分及边缘部而形成脱模剂层,在脱模剂层上形成将第2主...
五十岚健作
机壳
平面
研磨
机
本发明提供机壳
平面
研磨
机,涉及
研磨
机领域。该机壳
平面
研磨
机,包括机箱,所述机箱的后侧焊接有机壳,所述机壳的前端中部设有开口,所述机壳的内部焊接有固定板,所述固定板的表面安装有两条导轨,所述第一滑块的表面滑动连接有滑板,所...
毛露露
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一种
平面
研磨
设备
本发明涉及机械设备领域,具体为一种
平面
研磨
设备。所述
研磨
设备包括定位装置A、
研磨
盘B、
研磨
轮C、
研磨
头D和
研磨
液滴管F,
研磨
轮C放置在
研磨
盘B上方,
研磨
头D上方设置有气缸E,
研磨
盘B中间设计有驱动电机G,
研磨
盘B下方还设...
王国强
郑彬
吴威
一种
平面
研磨
抛光机
本申请涉及一种
平面
研磨
抛光机,涉及
研磨
抛光装置的技术领域,其包括
研磨
盒,底端呈开口状,且用于放置工件;磨料盒,设置于
研磨
盒的顶端,且用于向
研磨
盒内供应磨料;供风管,设置有两组,一组供风管连通于
研磨
盒的侧壁,另一组供风管连...
赵涛
一种行星式
平面
研磨
机
本发明公开了一种行星式
平面
研磨
机,涉及磨削
研磨
装置技术领域,包括齿圈、下转台、太阳轮、上转台,和两片呈圆环状的金刚石
研磨
垫,两片金刚石
研磨
垫分别设于下转台和上转台相对的两个
平面
上;定位载具,定位载具上开设有多个第一定位孔...
郑连彬
邓中华
一种陶瓷双
平面
研磨
装置
本实用新型涉及陶瓷加工技术领域,公开了一种陶瓷双
平面
研磨
装置,包括工作台和固定座,所述固定座的内部中部固定连接有电机一,所述电机一的输出端固定连接有螺纹杆,所述螺纹杆的外部螺纹连接有螺纹套,所述螺纹套的外部两侧均固定连接...
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一种圆弧摆动
平面
研磨
装置
一种新型圆弧摆动
平面
研磨
装置,包括电机支架、电机Ⅰ、刚性联轴器、下弧形导轨、圆柱齿轮Ⅰ、圆柱齿轮Ⅱ、牛眼轮、轴Ⅰ、齿轮固定架、下摆臂,上摆臂、上弧形导轨、固定竖板、电机板、弯轴,锥齿轮Ⅱ、电机Ⅱ、梅花联轴器、轴Ⅱ、圆柱齿...
文东辉
肖燏婷
王辉
许鑫祺
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一种双面
平面
研磨
抛光机
本实用新型涉及工件抛光技术领域,提供一种双面
平面
研磨
抛光机,包括
研磨
抛光机本体,所述
研磨
抛光机本体工作台与控制台,所述工作台顶端安装有下磨盘,所述控制台侧壁转动连接有转动臂,所述转动臂底部安装有下磨盘,所述下磨盘与上磨盘...
张安
一种行星式
平面
研磨
机
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一种石英件
平面
研磨
监测装置
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平面
研磨
监测装置,包括
研磨
盘、驱动电机、支撑架,
研磨
盘转动设置在支撑架上,
研磨
盘底部设置有驱动电机,
研磨
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蔡彬
王飞华
郑涛
李建斌
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作品数:393
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周兆忠
作品数:289
被引量:345
H指数:10
供职机构:衢州学院
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杨新刚
作品数:88
被引量:251
H指数:8
供职机构:西安理工大学机械与精密仪器工程学院
研究主题:并联机构 机床 微动 导轨 回转轴
袁巨龙
作品数:483
被引量:1,357
H指数:16
供职机构:浙江工业大学
研究主题:抛光 磨粒 研磨 研磨盘 抛光液
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