搜索到312篇“ 准分子激光光刻“的相关文章
- 准分子激光光刻光源关键技术及应用被引量：3
- 2022年
- 准分子激光光源在光刻、工业制造、医疗和科研领域都有广泛的应用,特别是其波长、线宽、能量与剂量等指标在光刻领域有很大的优势,可以为光刻机带来更小的图像分辨率和更均匀的曝光图形。现阶段准分子激光器已用于7 nm光刻工艺,并日趋完善,带来更低的运营成本、更高的产率和产量,从而推动整个半导体制造产业的发展。首先简单介绍了准分子激光原理,回顾了准分子激光的发展历史,调研了准分子激光在光刻上的应用现状,及国外准分子光刻光源的主流机型,继而重点阐述了部分应用在光刻中的准分子激光器的关键技术,并展望了准分子激光在光刻及集成电路制造其他环节应用的未来趋势,为我国准分子激光的自主可控发展提供有益借鉴。
- 江锐
- 关键词：准分子激光光刻
- 由石英玻璃制成的、用于在ArF准分子激光光刻中使用的光学部件以及用于制造该部件的方法
- 本发明基于一种由合成石英玻璃制成的光学部件，所述光学部件用在借助193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中，所述光学部件具有基本上无氧缺陷位置的玻璃结构、具有在0.1x10<Sup>16</Sup>个分子/cm<Sup...
- B.屈恩
- 文献传递
- 准分子激光光刻照明系统相干因子的校准方法
- 本发明是光刻系统基于CCD成像相干因子测量系统装置，通过针孔、旋转平台、手动X‑Y位移平台实现CCD感光面和透镜焦平面一致的校准。在CCD上建立合适的坐标系，然后在针孔上取一点，通过透镜成像在CCD上，求出此点的质心，得...
- 曹益平
- 文献传递
- 由石英玻璃制成的、用于在ArF准分子激光光刻中使用的光学部件以及用于制造该部件的方法
- 本发明基于一种由合成石英玻璃制成的光学部件，所述光学部件用在借助193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中，所述光学部件具有基本上无氧缺陷位置的玻璃结构、具有在0.1x10<Sup>16</Sup>个分子/cm<Sup...
- B.屈恩
- 文献传递
- 准分子激光光刻技术及进展综述被引量：5
- 2008年
- 从准分子激光的概念及特点引入,概述了以248nm KrF、193nm ArF以及157nm F2准分子激光光刻技术的现状和进展,并探讨了该领域面临的诸多挑战以及解决思路。
- 王光伟
- 关键词：准分子激光激光光刻刻蚀集成电路工艺
- 用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术被引量：1
- 2004年
- 用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术主要有无铬相移掩模(CPM),交替相移掩模(APSM)、衰减相移掩模(AttPSM)和混合相移掩模技术。对这些掩模的基本原理、制作方法及性能比较进行了分析研究。研究表明,无铬相位光刻(CPL)PSM和高透AttPSM 相结合构成的混合掩模最适合用于193nmArF光刻,以产生100nm节点抗蚀剂图形。
- 冯伯儒张锦宗德蓉刘娟陈宝钦刘明
- 关键词：相移掩模衰减相移掩模
- ArF准分子激光光刻相移掩模技术
- 对用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术作了阐述,对无铬相移掩模(CPM)、交替相移掩模(APSM)以及高透衰减相移掩模(HT AttPSM)和CPM组成的混合相移掩模技术进行了研究.对这些掩模的...
- 冯伯儒张锦宗德蓉蒋世磊刘娟陈宝钦刘明
- 关键词：光刻技术
- 文献传递
- 0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻被引量：4
- 2002年
- 阐述了可实现 0 1μm线宽器件加工的几种候选光刻技术 ,对 193nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述 ,指出其在 0 1μm技术段的重要作用 ,并提出了研制 193nm(ArF)光刻设备的一些设想。
- 陈兴俊胡松姚汉民刘业异
- 关键词：光学光刻光刻设备
- 用光致抗蚀剂膜层制作KrF准分子激光光刻掩模
- 介绍制作光刻掩模的一种新方法,即用光致抗蚀剂膜层直接作为掩蔽层来制作光刻掩模.其基本原理是利用光致抗蚀剂对不同波长入射光的透过率不同的特性,选用对曝光波长透过率低的光致抗蚀剂直接制作掩模.其制作方法是用普通匀胶机将选用的...
- 侯德胜冯伯儒张锦孙方
- 关键词：光致抗蚀剂光刻掩模衰减相移掩模准分子激光光刻
- 文献传递
- 用光致抗蚀剂膜层制作KrF准分子激光光刻掩模
- 介绍制作光刻掩模的一种新方法,即用光致抗蚀剂膜层直接作为掩蔽层来制作光刻掩模.其基本原理是利用光致抗蚀剂对不同波长入射光的透过率不同的特性,选用对曝光波长透过率低的光致抗蚀剂直接制作掩模.其制作方法是用普通匀胶机将选用的...
- 关键词：光致抗蚀剂光刻掩模衰减相移掩模准分子激光光刻
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相关作者
- 冯伯儒
- 作品数：109被引量：225H指数：9
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所
- 研究主题：光刻 相移掩模 光刻系统 干涉光刻 掩模
- 侯德胜
- 作品数：63被引量：142H指数：6
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所
- 研究主题：相移掩模 光刻 激光直写 光刻掩模 衰减相移掩模
- 张锦
- 作品数：139被引量：229H指数：8
- 供职机构：西安工业大学光电工程学院
- 研究主题：光刻系统 干涉光刻 光刻 光刻技术 激光干涉
- 田文彦
- 作品数：3被引量：0H指数：0
- 供职机构：四川大学
- 研究主题：准分子激光光刻 光刻 准分子激光 集成电路 激光
- 潘大任
- 作品数：13被引量：17H指数：2
- 供职机构：四川大学
- 研究主题：激光 光刻 准分子激光光刻 准分子激光 车辆
