搜索到117篇“ 光学发射谱“的相关文章
- 一种基于光学发射谱信号的等离子刻蚀过程故障检测方法
- 本发明涉及一种基于光学发射谱信号的等离子刻蚀过程故障检测方法，其包括以下步骤：1)设置包括等离子刻蚀腔体、OES信号采集设备和监控计算机的故障检测装置；所述监控计算机内预置有先验知识模块、数据预处理模块、训练模块和故障检...
- 王焕钢徐文立赵力辉张善贵马宝林孙岩
- 文献传递
- 光学发射谱在硫掺杂金刚石薄膜制备中的应用被引量：1
- 2011年
- 利用辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法,制备硫掺杂n型金刚石薄膜,利用光学发射谱技术对其生长环境进行原位诊断,分析合成机理及生长的最佳条件。结果表明,合成金刚石薄膜的合成反应区中主要粒子为CH、CH+、活性H原子,提高工作气压和硫碳配比浓度有利于提高硫掺杂浓度,在低温条件下合成了高品质的硫掺杂n型金刚石薄膜。
- 葛大勇赵庆勋杨保柱何雷
- 关键词：金刚石薄膜光学发射谱N型掺杂硫掺杂
- 一种基于光学发射谱信号的等离子刻蚀过程故障检测方法
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- 螺旋波等离子体化学气相沉积纳米硅薄膜的光学发射谱研究被引量：13
- 2005年
- 利用光学发射谱技术对螺旋波等离子体化学气相沉积纳米硅薄膜的等离子体内活性粒子的光发射特征进行了原位测量 .研究了薄膜沉积过程中各实验参量对活性基团SiH ,Hβ 以及Hα 的发射谱强度的影响 .实验结果表明 ,静态磁场的加入可显著提高反应气体的解离效率 ;适当的氢稀释可以提高氢活性粒子的浓度 ,而过高的氢稀释比将使含硅活性基团浓度显著减小 ;提高射频馈入功率整体上可以使各活性粒子的浓度增加 ,并有利于提高到达衬底表面氢活性粒子的相对比例 .结合螺旋波等离子体色散关系和等离子体特点对以上结果进行了分析 .该结果为螺旋波等离子体沉积纳米硅薄膜过程的理解及制备工艺参数的调整提供了基础数据 .
- 于威王保柱杨彦斌路万兵傅广生
- 关键词：光学发射谱纳米硅薄膜
- 等离子体增强化学气相沉积氮化碳薄膜过程中的光学发射谱研究被引量：6
- 2002年
- 利用光学发射谱技术对直流辉光放电等离子体增强的化学气相沉积氮化碳薄膜过程中的等离子体进行了原位诊断 ,结果表明主要的辐射有N2 的第二正系跃迁、N+2 的第一负系跃迁、CN和NH的紫外跃迁。研究了气源中氢气含量、放电电流及沉积气压的变化对N2 (337 1nm) ,N+2 (391 4nm)和CN(388 3nm)辐射强度的影响 ,并在此基础上探讨了这几种跃迁的激发机制 ,其结果为氮化碳合成中优化沉积参数。
- 于威王淑芳任国斌李晓苇张连水傅广生
- 关键词：光学发射谱等离子体增强化学气相沉积氮化碳薄膜
- 微波氧等离子体的光学发射谱和SiO2薄膜的制备
- 1997年
- 甘德昌
- 关键词：二氧化硅微波等离子体光学发射谱
- 使用无晶片干式清洗发射光谱来控制干式蚀刻过程的方法
- 本文描述了用于通过使干式清洗气体流入等离子体处理系统的等离子体处理室中并且点燃等离子体处理室中的等离子体以启动无晶片干式清洗过程来从光学发射光谱系统获取光学发射谱的架构、平台和方法。
- 布赖恩·J·科帕迪帕克·韦德哈查拉姆弗朗索瓦·C·达萨帕
- 等离子体处理中的空间分辨光学发射光谱(OES)
- 公开了用于光学发射测量的方法、系统和装置。该装置包括用于通过设置在等离子体处理室的壁处的光学窗口来收集等离子体光学发射谱的收集系统。光学系统包括：镜，其被配置成穿过等离子体处理室扫描多条不重合射线；以及远心耦合器，其用于...
- 孟庆玲霍尔格·图特耶陈艳米哈伊尔·米哈洛夫
- 一种制备磁性随机存储器阵列单元的方法
- 本发明提供了一种制备磁性随机存储器阵列单元的方法，通过在磁性隧道结电介质中间穿插一层位线通孔刻蚀阻挡层，使之能够阻挡在后续的位线通孔刻蚀工艺中的主刻蚀，并且提供主刻蚀终点光学发射谱判断信号；然后选用刻蚀速率更低、选择比更...
- 张云森
- 文献传递
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- 孟庆玲霍尔格·图特耶陈艳米哈伊尔·米哈洛夫
- 文献传递
相关作者
- 李雪辰
- 作品数：149被引量：281H指数：10
- 供职机构：河北大学
- 研究主题：介质阻挡放电 发射光谱 大气压 放电 辉光放电
- 贾鹏英
- 作品数：91被引量：132H指数：6
- 供职机构：河北大学
- 研究主题：发射光谱 介质阻挡放电 大气压 放电特性 放电
- 袁宁
- 作品数：8被引量：21H指数：3
- 供职机构：河北大学物理科学与技术学院
- 研究主题：大气压 光学发射谱 发射光谱 放电 介质阻挡放电
- 鲍文婷
- 作品数：21被引量：29H指数：4
- 供职机构：河北大学物理科学与技术学院
- 研究主题：直流激励 大气压 振动温度 谱线强度 大气压空气
- 傅广生
- 作品数：402被引量：688H指数：13
- 供职机构：河北大学
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